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  下面介紹一下銀鹽乳劑和高分子化合物復合型與噴涂蒙版型CTP版。

  組成：粗化的鋁版，PS感光層，粘附層，銀鹽乳劑層。

  原理：*次曝光，形成銀鹽潛像，顯影，沖洗，產生保護性的蒙層，接著第貳次曝光（UV光源），使高分子層見光，用毛刷洗去蒙層，高分子層用水溶液顯影，再用水沖洗，上膠干燥后即可上機印刷。

特點：處理過程復雜，增加了化學污液，但優點明顯。光源的能量比單一高分子型要低，提高了潛像的穩定性，印刷片適性良好；烤版后耐印率大。

噴涂蒙版型

它利用了噴涂或噴射技術。

組成：常規PS版加一層很薄的可溶解層或蠟質熔解層。

原理：用CTP系統的噴墨頭在版上噴墨，曝光，洗去蒙層，接下來的處理和常規PS版一樣。

特點：因使用了常規PS版，不需要額外的設備，是經濟實惠的一種CTP版材。